1. Mechanismus fotoinitiace Triphenylsulfonium
Sůl Triphenylsulfonium je typem kationtového fotoinitiatoru . Jeho základní funkcí je uvolňovat silnou kyselinu (jako je perfluorosulfonová kyselina) poté, co byla vzrušena ultrafialovým světlem (UV) nebo elektronním paprskem (EB), a tak i zahájení polymerační reakce jako epoxid a vinylery {{1 {{{{{. ** Triphenylsulfonium nonaflate (CAS 144317-44-2) ** Rozkládá se pod světlem za účelem generování perfluorobutanové sulfonové kyseliny, což významně snižuje hodnotu pH systému a katalyzuje řetězovou reakci .
Proces fotolýzy:
Vezměte ** Triphenylsulfonium hexafluorofosfát (TSHP) ** jako příklad . Po fotolýze generuje fenylové radikály a silnou kyselinu (HPF₆⁻), jehož druhá působí jako protonový zdroj k aktivaci monomeru .} .}
Spektrální charakteristiky:
Studie ukázaly, že změny absorpčního spektra TSHP v pevných a kapalných stavech mohou monitorovat průběh fotoreakce v reálném čase a poskytnout základ pro optimalizaci podmínek fotovoctu .
2. základní oblasti aplikací
Triphenylsulfoniové soli se široce používají v následujících oblastech kvůli jejich vysoké reaktivitě a nízké toxicitě:
Výroba materiálů elektronických stupňů
Fotorezista: Jako fotoacidový generátor (PAG) se používá v polovodičové fotolitografii k dosažení vysoce přesného přenosu vzorů na úrovni mikronů . například elektronická třída triphenylsulfonia nonaflate (čistota větší než 99%) je klíčová komponenta endové endové} {5.
Balicí materiály: V balení LED a čipu urychluje UV léčbu epoxidových pryskyřic a zlepšuje tepelnou odolnost a mechanickou sílu zařízení .
Povlaky a inkousty
Používá se v UV Curing Coatings, výrazně zkracuje dobu sušení (z hodin na sekundy) a nemá žádné těkavé emise organických sloučenin (VOC), které splňují environmentální standardy .
3D tisk a kompozitní materiály
Ve stereolitografii (SLA) a zpracování digitálního světla (DLP) se používá jako iniciátor pro fotocitlivé pryskyřice pro podporu rychlého prototypování složitých struktur .
3. Syntéza a bezpečnostní předpisy
Trasa syntézy:
Syntéza trifenylsulfoniové soli je obvykle dosažena náhradní reakcí trifenylsulfoniového bromidu a perfluorosulfonátu . Například, Triphenylsulfonium bromid a pefluorobutan sulfonate je reagován ve směsi rozpouštědle a dosahuje výnosu po 81% po křišťálu a křišťála a křišťála a křišťalizace a křišťalizace se pohybovala po křišťálu a křišťála a křišťála a křišťalizace a byla dosažena křišťála a křišťála a křišťalizace a byla dosažena 81. Čištění 1.
Bezpečnostní tipy:
Tento typ sloučeniny musí být uložen od světla a během operace musí být nošena ochranná zařízení . Experimentální data ukazují, že jeho bod tání je 84-88 stupeň a je snadno rozpustné v propylenonglykolu methylethether cetátu) ...
4. budoucí trendy a směry výzkumu
Green Chemistry: Vyvíjejte alternativy s nízkým fluorinem ke snížení dopadu na životní prostředí .
Multifunkčnost: Kombinujte nanomateriály pro rozšíření aplikací v flexibilní elektronice a biomedicíně .
Optimalizace procesu: Zlepšit účinnost syntézy a snižte náklady prostřednictvím technologie mikrofluidics .
As the core material of photocuring technology, triphenylsulfonium salt photoinitiators have demonstrated irreplaceable value in the fields of electronics, coatings and 3D printing. With the tightening of environmental regulations and technological iterations, its market potential will be further released. Enterprises need to focus on the research and development of high-purity products and the layout of the supply chain to Zabaňte velící výšky průmyslu .